Область применения:
Установка может применяться для средне и мелкосерийного производства, там где не требуется сверхвысокой производительности. Гибкий инструментарий установки дает возможность использования ее и для R&D применений.
Техническая спецификация:
- Вакуумная камера
- Из нержавеющей стали, с водяным охлаждением
- Размер: 813 х 813 мм
- Расстояние до источника: 727 мм
- Подложкодержатели
- Планетарного типа (с тремя полусферами)
- Lift-off
- C изменяемым углом
- Насосы
- Диффузионный вакуумный насос
- Турбомолекулярный вакуумный насос
- Криогенный насос
- Система управления
- PLC + Сенсорный экран
- PC/PLC
- Источники
- Электронная пушка
- Резистивный источник
- Резистивный источник с поворотом
- Магнетроны
- Ионный источник